Handbook of plasma processing technology : fundamentals, etching, deposition and surface interactions [ Livre] / Stephen M., Rossnagel / Jerome J., Cuomo

Auteur principal: Rossnagel, Stephen M.,Co-auteur: Cuomo, Jerome J.Langue: Anglais ; de l'oeuvre originale, Anglais.Publication : Park Ridge (N.J.) : Noyes Publications, 1990Description : V.523 pISBN: 9780815512202.Collection: Materials science and process technology seriesClassification: 532.2 Mécanique des fluidesSujet - Nom commun: Technique des plasmas | Semiconducteurs -- Effets des plasmas | Gravure par plasma
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Sciences de l'ingénieur
532.2 ROS (Browse shelf) Available 532.2 Mécanique des fluides 028667

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